光刻机也有人称为曝光机，光刻工艺，要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。地址失效发送任意邮件到 Ltxs Ba@gmail.com 获取最新地址

通俗一点讲，光刻就是在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制“到硅片上的过程。

光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。

因此光刻机价格昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元之间。

光刻机、芯片，差不多代表人类最前沿的科技之一，属于